Застосування плазми жеврійного розряду задля очищення (активації) та модифікування металевих поверхонь для зварювання, лютування та нанесення покриттів
М. Г. Болотов, І. О. Прибитько
Національний університет «Чернігівська політехніка», вул. Шевченка, 95, 14035 Чернігів, Україна
Отримано 23.12.2020; остаточна версія — 15.02.2021 Завантажити PDF
Анотація
Відомо, що поверхневі явища відіграють вирішальну роль у процесах утворення міцних міжатомових зв’язків при з’єднанні різнорідних матеріалів, а також осадженні металевих покриттів. Так, наявність на поверхні металів різного роду забруднень, зокрема шарів оксидів, істотно понижує поверхневу енергію металу, перешкоджаючи таким чином перебігу дифузійних процесів у зоні контакту та змочуванню їх рідкою лютою, а також адгезії конденсованих плівок на поверхні субстрату. У зв’язку з цим істотну роль відіграють процеси очищення (активації) металевих поверхонь перед зварюванням або нанесенням на них шару покриття. У ряді випадків металеві поверхні модифікують задля надання їм необхідних властивостей. Останнім часом з метою активації та модифікування поверхонь перед зварюванням і нанесенням покриттів широкого використання набуває газорозрядна плазма жеврійного розряду. Остання уможливлює здійснення оброблянь поверхонь різної конфіґурації, у тому числі й внутрішніх порожнин, та різної площі — від одиниць до десятків тисяч квадратних сантиметрів. Даний огляд містить результати досліджень стосовно очищення та модифікування металевих поверхонь йонами низької енергії (< 10 кеВ), ініційованих у плазмі аномального жеврійного розряду для зварювання, лютування та нанесення покриттів. Зокрема, тут наведено результати досліджень йонного очищення в плазмі жеврійного розряду поверхонь зразків, виконаних з криць 45 і 08кп, ряду активних металів і стопів, а також хромовмісних криць 40Х, 20Х13 та 12Х18Н10Т, що мають на своїй поверхні хемічно та термічно стійкі оксиди Cr2O3. Зазначається вирішальний вплив на ефективність очищення та модифікування металевих поверхонь таких параметрів режиму, як напруга на електродах, густина струму розряду, тиск у робочій камері та час йонної експозиції. При цьому оптимальні значення цих параметрів у більшості випадків визначаються технологічними умовами процесу та коливаються в наступних межах: Ud = 1500–3500 В, Jd = 0.4–1 мА/см2, P = 3.99–7.98 Па, t = 120–300 с відповідно.
Ключові слова: жеврійний розряд, плазма, йонне бомбардування, обробляння поверхні, йонне модифікування, поверхні металу та стопу.
Citation: M. G. Bolotov and I. O. Prybytko, Application of Glow Discharge Plasma for Cleaning (Activation) and Modification of Metal Surfaces while Welding, Brazing, and Coating Deposition, Progress in Physics of Metals, 22, No. 1: 103–128 (2021); doi: 10.15407/ufm.22.01.103